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電解拋光基本原理與化學拋光相同，即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分，使表面光滑。與化學拋光相比，可以消除陰極反應的影響，效果較好。
　　電化學拋光過程分為兩步：　（1）宏觀整平　溶解產物向電解液中擴散，材料表面幾何粗糙下降，Ra＞1μm。　（2）微光平整　陽極極化，表面光亮度提高，Ra＜1μm。